Hello Guest

Sign In / Register

Welcome,{$name}!

/ Uitloggen
Nederland
EnglishDeutschItaliaFrançais한국의русскийSvenskaNederlandespañolPortuguêspolskiSuomiGaeilgeSlovenskáSlovenijaČeštinaMelayuMagyarországHrvatskaDanskromânescIndonesiaΕλλάδαБългарски езикGalegolietuviųMaoriRepublika e ShqipërisëالعربيةአማርኛAzərbaycanEesti VabariikEuskeraБеларусьLëtzebuergeschAyitiAfrikaansBosnaíslenskaCambodiaမြန်မာМонголулсМакедонскиmalaɡasʲພາສາລາວKurdîსაქართველოIsiXhosaفارسیisiZuluPilipinoසිංහලTürk diliTiếng ViệtहिंदीТоҷикӣاردوภาษาไทยO'zbekKongeriketবাংলা ভাষারChicheŵaSamoaSesothoCрпскиKiswahiliУкраїнаनेपालीעִבְרִיתپښتوКыргыз тилиҚазақшаCatalàCorsaLatviešuHausaગુજરાતીಕನ್ನಡkannaḍaमराठी
Huis > Nieuws > Intel: Intel 3 "3nm" procestechnologie nu in volumeproductie

Intel: Intel 3 "3nm" procestechnologie nu in volumeproductie

Intel heeft aangekondigd dat de procestechnologie van Intel 3 (3nm Class) nu in volumeproductie is bij twee wafer fabricage -fabrieken, met aanvullende details over het nieuwe productieknooppunt dat ook is verstrekt.Het nieuwe proces levert hogere prestaties en een grotere transistordichtheid en ondersteunt 1,2V-spanning voor ultrahoogte-prestaties.Dit knooppunt is gericht op Intel's eigen producten en gieterijklanten, met plannen voor voortdurende vooruitgang in de komende jaren.

"Onze Intel 3 is nu in volumeproductie in onze faciliteiten in Oregon en Ierland, inclusief voor de onlangs gelanceerde Xeon 6 'Sierra Forest' en 'Granite Rapids' processors," verklaarde Walid Hafez, vice -president van Intel Foundry Technology Development.

Intel heeft consequent het productieproces van Intel 3 geplaatst voor datacenterkrachttoepassingen, die geavanceerde prestaties vereisen door verbeterde transistoren (vergeleken met Intel 4), verminderde transistor via weerstand in de vermogensafgiftecircuits en ontwerpco-optimalisatie.Het productieknooppunt ondersteunt <0.6V low voltage and >1.3V Hoogspanning voor maximale belasting.In termen van prestaties belooft Intel een toename van de prestaties met 18% op dezelfde vermogens- en transistortichtheidsniveaus.

Voor de optimale combinatie van prestaties en dichtheid moeten chipontwerpers een combinatie van 240 nm hoogwaardige en 210 nm bibliotheken met hoge dichtheid gebruiken.Bovendien kunnen Intel-klanten kiezen tussen drie metaalstapelopties: een versie van 14 laags om de kosten, een versie van 18 laags te verlagen voor de beste balans tussen prestaties en kosten, en een versie van 21 laags voor hogere prestaties.

Momenteel gebruikt Intel zijn 3NM -klasse -procestechnologie om Xeon 6 datacenter processors te produceren.Uiteindelijk zullen de gieterijen van Intel dit productieknooppunt gebruiken om datacenter-grade processors voor klanten te produceren.

Naast de standaard Intel 3, zal het bedrijf ook Intel 3T aanbieden, die door-silicon-vias ondersteunt en kan worden gebruikt als basischip.In de toekomst is Intel van plan de Enhanced-Functionality Intel 3-E te bieden voor chip- en opslagtoepassingen, evenals Intel 3-PT voor prestatieverbetering in verschillende werklast, zoals kunstmatige intelligentie (AI)/High-Performance Computing (HPC)en algemene pc -prestaties.