Infineon Technologies en Canon lanceren gezamenlijk onderzoeksproject om de introductie van 157nm te

Joint News Release van Infineon Technologies en Canon

Tokio, München, 12 juni 2001 - Infineon Technologies AG (FSE / NYSE: IFX) en Canon Inc. (NYSE: CAJ) hebben vandaag een overeenkomst aangekondigd om een ​​gezamenlijk onderzoeksproject te starten voor de ontwikkeling van fotolithografiesystemen met 157 nm (nanometer) belichtingstechnologie via F2 (fluor) laserbelichting. De gezamenlijke inspanning zal naar verwachting de ontwikkeling van 157nm lithografiesystemen versnellen en de daaropvolgende introductie van deze systemen in het fabricageproces van halfgeleiderinrichtingen. Infineon is van plan om 157 nm-lithografie te introduceren voor de productie van geheugen- en logicaproducten op geavanceerde productielocaties.

Infineon Technologies neemt deel aan Canon's ontwikkelingsinspanningen om de realisatie van Canons eerste generatie F2-belichtingssysteem te versnellen, dat gepland is voor levering aan Infineon Technologies in het tweede kwartaal van 2003. Tot die tijd zullen gezamenlijke onderzoeksactiviteiten wordt uitgevoerd bij Canon Inc. Utsunomiya Optical Products Operations, bestaande uit het verzamelen van procesgegevens met betrekking tot de feitelijke fabricage van apparaten om de ontwikkeling van 70nm compatibele belichtingssystemen mogelijk te maken. Daarna zal het onderzoek worden verplaatst naar Infineon Technologies ?? faciliteiten voor gezamenlijke procesontwikkeling tot het einde van 2004. Canon heeft verschillende procesgegevens nodig met betrekking tot de feitelijke fabricage van apparaten om 70nm-compatibele F2-belichtingssystemen te ontwikkelen om de ArF (argonfluoride) laserlithografie-gereedschapsopstelling te volgen.

Infineon en Canon zijn van mening dat fabrikanten van halfgeleiders F2-lasergebaseerde belichtingssystemen nodig hebben, met de kortere 157 nm golflengte, voor de ontwikkeling en productie van apparaten met 70 nm-grondregels. Blootstellingssystemen die KrF (krypton fluoride, 248nm) en ArF (193nm) -lasers gebruiken, zijn niet in staat de fijne lijnen te modelleren die vereist zijn door de chipindustrie voor miniaturisatie onder de 90 nm en zijn derhalve niet geschikt voor het aanhoudend kleiner worden van apparaatontwerpregels. Om op de International Technology Roadmap voor Semiconductors (ITRS) te blijven, die verwacht dat de volumeproductie van 70nm geheugenapparaten in 2006 zal beginnen, zal de 157nm apparatuur enkele jaren van tevoren nodig zijn voor de ontwikkeling en prototyping van deze apparaten.

?? Deze samenwerkingsovereenkomst brengt de enorme resistprocesgegevens en -ervaring van Infineon Technologies en de geavanceerde halfgeleiderapparatuur voor lithografietoepassingen van Canon samen? verklaarde Andreas Oelmann, vicepresident bedrijfs lithografie van Infineon. "We zijn zeer tevreden over dit gezamenlijke ontwikkelingsprogramma, omdat we kunnen beginnen met de nieuwe 157 nm-lithografietechnologie op tijd voor onze agressieve routekaart voor de nieuwe geheugen- en logica-producten van Infineon. In dit gezamenlijke werkproject zal Infineon zowel knowhow als mankracht inbrengen om de ontwikkeling in Utsunomiya te versnellen. Timing is zeer cruciaal voor de introductie van de komende shrink nodes en we zijn ervan overtuigd dat een dergelijk gemeenschappelijk programma waardevolle maanden kan winnen om de concurrentie voor te blijven.

"Dit is de eerste stap in het aantonen van Canons inzet om tijdig de meest geavanceerde optische lithografie-apparatuur en -oplossingen op de markt te brengen, ?? zei Akira Tajima, Canon Inc. Directeur en Chief Executive van Optical Products Operations. Omdat Canon's doel is niet alleen de meest geavanceerde fotolithografie-apparatuur te leveren, maar ook een 157nm technologieoplossing, zal Canon met onze klanten samenwerken aan procesontwikkeling, waardoor technologie-experts uit verschillende gebieden hun individuele expertise kunnen combineren en zich kunnen concentreren op een gemeenschappelijk doel bereiken. ??

Over Infineon Technologies

Infineon Technologies AG, München, Duitsland, biedt oplossingen voor halfgeleiders en systemen voor toepassingen in de markt voor bedrade en draadloze communicatie, voor beveiligingssystemen en smartcards, voor de automobiel- en industriële sectoren, evenals voor geheugenproducten. Met een wereldwijde aanwezigheid is Infineon actief in de VS vanuit San Jose, CA, in de regio Azië-Stille Oceaan vanuit Singapore en vanuit Tokyo vanuit Tokio. In het boekjaar 2000 (eindigend september) behaalde het bedrijf een omzet van 7,28 miljard euro met ongeveer 29.000 werknemers wereldwijd. Infineon staat genoteerd op de DAX-index van de Frankfurt Stock Exchange en op de New York Stock Exchange (tickersymbool: IFX). Meer informatie is beschikbaar op www.infineon.com.

Over Canon

Canon Inc. (NYSE: CAJ), met hoofdzetel in Tokio, Japan, is een leider op het gebied van professionele en consumenten imagingapparatuur en informatiesystemen. Canon's uitgebreide assortiment omvat kopieerapparaten, Bubble Jet- en laserprinters, camera's, videoapparatuur en apparatuur voor de vervaardiging van halfgeleiders. Oorspronkelijk opgericht in 1937 als Precision Optical Industry, Co., Ltd., een camerafabrikant, heeft Canon met succes gediversifieerd en geglobaliseerd tot een marktleider in professionele en consumentenafbeeldingssystemen en -oplossingen. Het bedrijf heeft wereldwijd ongeveer 86.000 werknemers met productie- en marketingdochterondernemingen in Japan, Noord- en Zuid-Amerika, Europa, Azië en Oceanië en een wereldwijd R & D-netwerk met bedrijven in de Verenigde Staten, Europa, Azië en Australië. Canon's geconsolideerde omzet voor het boekjaar 2000 (eindigend op 31 december 2000) bedroeg $ 24,2 miljard (tegen een wisselkoers van \ 115 = US $ 1). Bezoek de Canon Inc.-website op www.canon.co.jp

Redactionele contacten:

Richard Berger, Canon Inc.
Tel: 03-5482-8055 / Fax: 03-5482-5130
richard. berger@canon.co .jp